रासायनिक आधारों के 20 उदाहरण

नामांकित किया गया है रासायनिक आधार सभी पदार्थों के लिए, जो पानी में घुलने पर हाइड्रॉक्सिल आयन (OH .) मुक्त करते हैं^–). उदाहरण के लिए: कैल्शियम हाइड्रॉक्साइड, कॉपर हाइड्रॉक्साइड, जिंक हाइड्रॉक्साइड.

रासायनिक आधारों को के रूप में भी जाना जाता है क्षार, क्योंकि हाइड्रॉक्सिल समूहों (OH .) को अलग करने और मुक्त करने से^–), थे पीएच विलयन की मात्रा बढ़ जाती है, अर्थात् विलयन क्षारीय हो जाता है। यह तब होता है जब a. के विपरीत होता है अम्लक्योंकि उस स्थिति में pH कम हो जाता है और विलयन अम्लीय हो जाता है।

ठिकानों में a. है कड़वा स्वाद विशेषता। उसके बाद विघटन, परिणामी समाधान विद्युत प्रवाह (आयनों की उपस्थिति के कारण) का संचालन करते हैं और आमतौर पर त्वचा और अन्य मानव और पशु ऊतकों के लिए कास्टिक और परेशान होते हैं।

आधार एसिड को बेअसर करना, अक्सर बना तुम बाहर जाओ. क्षारीय समाधान फिसलन या साबुन महसूस करते हैं; ऐसा इसलिए होता है क्योंकि वे तुरंत. का साबुनीकरण उत्पन्न करते हैं वसा त्वचा की सतह पर मौजूद है।

हाइड्रॉक्साइड्स के मामले में उनके घुलनशीलता पर निर्भर करता है धातु: समूह (I) के लोग पानी में सबसे अधिक घुलनशील होते हैं, दूसरी ओर, तत्वों के हाइड्रॉक्साइड के साथ ऑक्सीकरण डिग्री (II) कम घुलनशील होती है और ऑक्सीकरण डिग्री (III) या (IV) लगभग होती है अघुलनशील के अमाइन और क्षार

न्यूक्लिक एसिड वे कार्बनिक लोगों के बीच सबसे व्यापक आधार हैं।

सिद्धांत जो आधारों को परिभाषित करते हैं

रासायनिक आधारों को परिभाषित करने के लिए विभिन्न सिद्धांत हैं:

इस प्रकार ओह आयन^–को अपना अबंधन इलेक्ट्रॉन युग्म दान करता है एच⁺एक समन्वय या मूल बंधन बनाने के लिए (यह एक प्रकार का है) सहसंयोजक बंधन जहां केवल एक परमाणुओं वह बंधन इलेक्ट्रॉनों की जोड़ी प्रदान करता है) जिसके माध्यम से पानी का अणु बनता है।

आधारों का उपयोग

सोडियम हाइड्रॉक्साइड यह व्यापक रूप से में प्रयोग किया जाता है उद्योग: यह तथाकथित कास्टिक सोडा है। साबुन के निर्माण में, वसा जानवर या सब्जियां, जिन्हें उबाला जाता है हीड्राकसीड सोडियम और इस प्रकार सोडियम स्टीयरेट बनता है।

सोडियम हाइड्रॉक्साइड का उपयोग ओवन क्लीनर के निर्माण में, पेपर पल्प के निर्माण में और कुछ घरेलू क्लीनर में भी किया जाता है। एक अन्य व्यापक रूप से उपयोग किया जाने वाला आधार कैल्शियम हाइड्रॉक्साइड है, जो निर्माण में उपयोग किया जाने वाला बुझा हुआ चूना है।

रासायनिक आधारों के उदाहरण

1. कैल्शियम हाइड्रॉक्साइड - Ca (OH)
2. पोटेशियम हाइड्रॉक्साइड - KOK
3. बेरियम हाइड्रॉक्साइड - बा (OH)
4. मैग्नीशियम हाइड्रॉक्साइड - Mg (OH)
5. अमोनिया - NH₃
6. कॉपर (II) हाइड्रॉक्साइड - Cu (OH)
7. आयरन (II) हाइड्रॉक्साइड - Fe (OH)
8. एल्युमिनियम हाइड्रॉक्साइड - AI (OH)
9. जिंक हाइड्रोक्साइड - Zn (OH)
10. सोडियम हाइड्रॉक्साइड - NaOH
11. निकल (II) हाइड्रॉक्साइड - Ni (OH)
12. डिटर्जेंट साबुन